【6月2日讯】众所周知，随着慢慢的变多中国高新科技企业被列入到美国“实体清单”之后，相对较为落后的国产芯片制造，也是再次引起了大家关注，其中在整个芯片制作的完整过程中最重要的设备—光刻机，自然也就成为了大家最为关注的芯片制造设备之一，毕竟光刻机精密度直接影响着芯片性能、功耗、发热等表现；
在整个芯片制作的完整过程中，硅晶圆片光刻几乎占到了整个芯片制造工时35%-40%，同时光刻机的精密度也直接界定着芯片工艺制程，高端光刻机往往能够生产出精密度更好的芯片，例如7nm、7nm EUV甚至是5nm，都是目前最顶级的芯片制造工艺，所以在性能、功耗、发热等方面的表现，都会更出色，但在全世界内，目前只有荷兰ASML公司能够生产这种高端EUV光刻机设备。我国企业所生产的光刻机设备水平依旧处于较为落后水准，与荷兰ASML公司相比，依旧还有着非常大的技术差距，但西方国家又对我们封锁了相关的光刻机设备购买渠道，所以在关键设备上被别人“卡住脖子”，也是严重制约着国产芯片制造水平进步。
而目前我国最牛的光刻机巨头就是上海微电子装备(集团)股份有限公司（简称SMEE）；目前所生产的600系列光刻机，已经能够很好的满足90nm芯片生产，可用于8寸线寸线的大规模工业生产，虽然整体光刻机水准较为落后，但最起码能够很好的满足低端芯片生产制造需求，不至于连最低端的光刻机设备都要依靠进口，受到“断供”威胁；
虽然上海微电子装备(集团)股份有限公司所生产的光刻机设备较为低端，但依旧占据着国内近80%的光刻机市场占有率，所以SMEE凭借几乎垄断国内的光刻机市场占有率，依旧能够在全球光刻机设备制造领域排名第四，当然未来随着国产芯片产业持续不断的发展，我们的国产光刻机、国产芯片一定能实现从低端到高端的发展，这也是中国过往众多企业、产品最喜欢的发展路线，从低端到高端的蜕变。
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